Zemax OpticStudio,作为一款综合性的光学设计软件,以其卓越的功能和行业标准的分析、优化、尺寸公差分析能力而著称。它能够迅速而精确地进行电子光学显像及照明灯具设计,并在生产样品之前协助工程师解决光学设计难题。
应用特点
光学显微镜、望眼镜、目镜等镜头设计
摄像机镜头、各种超广角镜头、手机镜头、夜视系统设计
LED二次光学镜片、饱和度分析及颜色搭配优化
大灯、LCD背光板和LED等照明灯具系统设计优化
日光灯管、光纤适配器,数字功放及无源器件、光纤线耦合
DVD、VCD激光器读写头、干涉仪、全息投影电子光学
LCOS、DLP等投影机及电子光学模块设计
物理光学BPM计算,偏振光学
激光器光学系统,激光打标机及元器件设计,系统分析
激光器扩束镜镜头、F-theta扫描仪镜头设计优化,整形美容镜头设计
如何使用 OpticStudio在商品模拟仿真中扮演着关键角色,其最重要的功能之一便是在同一光学系统中分别进行编码序列和非编码序列光源追迹。在仿真建模时,确保其可制造性至关重要,这包括在编码序列方式下进行设计和分析,以及在使用非编码序列方式下进行仿真模拟。
无论系统简单还是复杂,OpticStudio都能在生产样品之前协助处理光学设计难题。新发布的OpticStudio 18.4版本,包含了多个新增功能和功能提升,以帮助您更精确地模拟仿真光学系统。
新功能及优化
全视场像差分析:通过全视场分析您的系统,观察不同类型的像差如何减少系统光线或成像品质,极大地提升了您在任意斜面行业的设计体验。
NSC组工具升级:使具有轴力直径的离轴系统自动完成转换。
新组成镜片物件:在非编码序列方式下模拟复杂镜片,用于杂散光眼分析及铣机设计。
原生态布尔运算物件:在复杂物件内进行更快速率、更高精度且更可靠的光源追迹。
OpticStudio为快速验证光学设计理念提供了灵活、直观且强大的模型环境。根据最新调研数据,对于用户来说OpticStudio的操作界面及其整体易用性仍然至关重要。新版本进行了以下优化:
检索功能:使用此功能,您可以在在线编辑器中快速找到所需的表面、物件或操作数。
便签功能:使用此功能,您可以充分优化对在线编辑器内容的组织分配。
软件亮点
几何光学设计:显像镜头设计、显像品质分析、温度环境分析、加工尺寸公差分析等
物理光学设计:激光器系统及元器件的设计及分析,电子光学相关透射特性分析、光纤耦合等
照明灯具系统设计:照明灯具系统设计,铣机设计,与三维实体模型软件动态链接,灯源库等
ZPL语言拓展:内置的计算机语言能够实现功能拓展
拓展功能:可与C语言、C++、VB等计算机语言进行配合应用
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